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        • XRS2000復方磺胺甲噁唑混懸液高剪切分散機

          復方磺胺甲噁唑混懸液高剪切分散機由于工作腔體內三組分散頭(定子+轉子)同時工作,乳液經過高剪切后,液滴更細膩,粒徑分布更窄,因而生成的混合液穩定性更好。

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          2023-11-13

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        • XMD2000多糖分散液高剪切超高速分散機

          多糖分散液高剪切超高速分散機由于工作腔體內三組分散頭(定子+轉子)同時工作,乳液經過高剪切后,液滴更細膩,粒徑分布更窄,因而生成的混合液穩定性更好。

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        • XMD2000鈦酸鋰偶聯劑改性石墨烯研磨分散機

          鈦酸鋰偶聯劑改性石墨烯研磨分散機定子可以無限制的被調整到所需要的轉子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。

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        • XMD2000肌酸粉高剪切混合分散機

          肌酸粉高剪切混合分散機由于工作腔體內三組分散頭(定子+轉子)同時工作,乳液經過高剪切后,液滴更細膩,粒徑分布更窄,因而生成的混合液穩定性更好。

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        • XRS2000硅酸脂改性碳納米管高剪切分散機

          硅酸脂改性碳納米管高剪切分散機由于工作腔體內三組分散頭(定子+轉子)同時工作,乳液經過高剪切后,液滴更細膩,粒徑分布更窄,因而生成的混合液穩定性更好

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        • XMD2000氧化銦錫光電應用納米級分散機

          氧化銦錫光電應用納米級分散機具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的轉子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。

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          2023-11-12

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        • XMD二氧化鈦超高速研磨分散機

          二氧化鈦超高速研磨分散機定子可以無限制的被調整到所需要的轉子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。

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        • XMD碳硅材料高剪切研磨分散機

          碳硅材料高剪切研磨分散機轉子速度可以達到66m/s。在該速度范圍內,由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。

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